I produttori di chip semiconduttori utilizzano nei loro processi una varietà di gas per modellare i wafer di silicio. Dopo la lavorazione di un certo numero di wafer, le camere di processo devono essere pulite. Per soddisfare le esigenze dell'industria dei semiconduttori, Solvay ha sviluppato e brevettato a livello globale due diverse miscele di gas di fluoro come gas ecologici per i processi di pulizia CVD. Solvaclean è un gas di pulizia che sostituisce i tre principali gas di pulizia C2F6, CF4 e NF3, con miscele di gas fluorurati rispettose dell'ambiente. Questo progetto comprendeva la convalida e l'ottimizzazione dei nuovi processi di pulizia sulle apparecchiature di produzione e il rilascio alla produzione FAB (impianto di fabbricazione di semiconduttori dove vengono prodotti dispositivi come i circuiti integrati). Solvaclean pulisce con una velocità e un'efficienza simili a quelle delle alternative, con un minor consumo di gas per ogni utilizzo.

I benefici per l'ambiente

• •Meno gas fluorurati utilizzati
• •2200 t di risparmio di CO2 sulla base di 30000 wafer
• •Non è necessario l'incenerimento al plasma del gas di scarico
• •2200 t di risparmio di CO2 rispetto alla pulizia di 30000 wafer con C2F6 - potenziale di risparmio annuale di 4,5 milioni di tonnellate di CO2 equivalente
• •Fino al 10% di risparmio energetico grazie alle sorgenti al plasma e all'assenza di bruciatori al plasma
• •Fino al 50% di risparmio idrico

I vantaggi finanziari

• •Il tempo di ritorno dell'investimento per la sostituzione di C2F6 è inferiore a 2 anni.
• •Solvaclean non ha bisogno di inceneritori al plasma per distruggere i residui di C2F6, NF3 o SF6, con conseguente riduzione dei costi.

Profilo del cliente target

• Business

Regione di attività

• Sede operativa
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Solvay

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